一、產(chǎn)品介紹：
AWL046型、AWL068型、AWL812型晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備(半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測)是由高精度光學(xué)檢測顯微鏡搭載全自動(dòng)晶圓搬運(yùn)系統(tǒng)組成，支持4-12寸的晶圓尺寸，可輕松實(shí)現(xiàn)多角度、全視野的宏觀檢查、以及晶圓微觀細(xì)節(jié)的高清捕捉，可對半導(dǎo)體過程工藝中的關(guān)鍵參數(shù)、缺陷問題進(jìn)行有效監(jiān)控，是晶圓來料檢測和工藝控制流程缺陷分析的高效利器。
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備(半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測)兼具穩(wěn)定性和安全性，能夠安全可靠的傳送晶圓，適合于前道到后道工程的晶圓檢查一個(gè)晶圓在經(jīng)過一系列復(fù)雜工序后最終變成多個(gè)IC單元，期間晶圓需要依賴搬運(yùn)機(jī)在處理站之間執(zhí)行快速、精確的傳送作業(yè)。納米級厚度的晶圓很容易在傳送過程中損壞，而且還須確保在工序中晶圓表面不得有臟污、缺陷等。
SOPTOP(舜宇儀器)擁有AWL046、AWL068、AWL812三種機(jī)型，多類配置，分別可適用于 4/6 英寸，6/8英寸、8/12英寸的晶圓檢測，適應(yīng)范圍廣、搭配靈活 。
可自由設(shè)置的檢查模式，充分符合人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)，操作舒適、簡便。
二、產(chǎn)品功能：
提供先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝，光學(xué)檢測解決方案。(如圖所示)
三、應(yīng)用領(lǐng)域：
四、產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.精準(zhǔn)掃描：
通過高精度光學(xué)探測系統(tǒng)，對晶圓盒進(jìn)行逐層掃描，記錄晶圓片位置信息?？焖贉?zhǔn)確識別晶圓斜插錯(cuò)層等狀態(tài)，對異常狀態(tài)提出報(bào)警，準(zhǔn)確度達(dá)到100%。
2.高級圖像分析軟件：
舜宇儀器自主開發(fā)的 Mvlmage3.0圖像處理軟件，配備電動(dòng)平臺、電動(dòng)z軸、電動(dòng)轉(zhuǎn)換器、光源控制等硬件配件，支持自動(dòng)大圖拼接，景深融合，自動(dòng)對焦，3D測量；適配64位windows系統(tǒng)及MX系列顯微鏡。
3.360°宏觀檢查：
AWL系列晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備(半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測)具有宏觀檢查手臂，可以實(shí)現(xiàn)晶面宏觀檢查、晶背宏觀檢查1的360°旋轉(zhuǎn)，更為容易發(fā)現(xiàn)傷痕和微塵。通過操作桿可隨意將晶圓傾斜觀察。晶面最大傾斜角度70°，晶背1最大傾斜角度90°，晶背2最大傾斜角度160°，利用旋轉(zhuǎn)功能、傾斜角度，可以目視檢查整個(gè)晶圓正反面及邊緣。
4.人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)：
LCD 顯示屏，可為操作者提供更直觀的視覺體驗(yàn)，可清晰的顯示當(dāng)前檢查項(xiàng)目及次序，調(diào)試參數(shù)一目了然。手動(dòng)快速釋放真空載物臺可提高操作者的舒適度和工作效率。
5.高精度晶圓預(yù)對準(zhǔn)：
①利用非接觸式光學(xué)方式，對Wafer的中心與notch/Flat進(jìn)行定位；
?、谌詣?dòng)智能化預(yù)對準(zhǔn)機(jī)制，可實(shí)現(xiàn)對檢測對象的準(zhǔn)確、快速定位；
③適用于Si、SiC、EMC、Glass等多種晶圓材質(zhì)。
6.精密微觀檢查：
采用專業(yè)半復(fù)消色差金相物鏡，可滿足明場、暗場、DIC、偏光等多種觀察方式。全新電動(dòng)控制系統(tǒng)，可排查 μm 級異常，諸如孔未開出，短路，斷路，沾污，氣泡，殘留等。
7.精密光學(xué)微觀檢查：
采用寬光束成像系統(tǒng)，支持25mm超寬視野觀察，帶給您全新的大視野體驗(yàn)。光學(xué)系統(tǒng)配備了起偏鏡插板和檢偏鏡插板的偏振系統(tǒng)、高對比度的微分干涉相襯成像系統(tǒng) , 呈現(xiàn)高分辨率、高清晰度的顯微成像。
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首頁-產(chǎn)品展示-工業(yè)及半導(dǎo)體檢測解決方案-晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備-AWL046晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
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